2021-12-20
半導(dǎo)體（FAB）潔凈室中相對(duì)濕度的目標(biāo)值大約控制在30至50%的范圍內(nèi)，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi)，例如光刻區(qū)──或者在遠(yuǎn)紫外線(xiàn)處理（DUV）區(qū)甚至更小──而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。
查看更多
標(biāo)簽：
電子廠(chǎng)房潔凈工程
工信部備案號(hào)：